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华盛顿——美商务部专利商标局携手专利公共咨询委员会专利质量联合工作小组拟举办两轮圆桌会议，就提高专利质量及完善量度标准征求意见。
据美专利商标局称，这两次圆桌会议将于5月10日、18日分别于洛杉矶、亚历山大召开，均对公众开放。
美商务部主管知识产权事务的副部长兼专利商标局局长大卫．咔帕斯（David Kappos）称：“高质量的专利对于发挥专利制度的作用至关重要，公布高质量的专利是美国专利商标局的头等大事，公开高质量专利可以为市场指明方向，企业或者创新人士可以据此及时就产品及服务开发做出决定。”
专利事务专员罗伯特．斯顿（Robert Stoll）和专利公共咨询委员会成员马克．阿德勒（Marc Adler）将共同协调组织5月10日的会议，该会议将在洛杉矶公共图书馆举行。
副部长咔帕斯和马克．阿德勒将协调5月18日的会议。
据悉，任何人都可以就美专利商标局提高专利质量、专利质量度量标准及会议上提出的任何议题递交书面意见建议，截止日期是2010年6月18日。
会议内容将在网上直播，可于会议召开前登录美专利商标局网站查询相关信息。（编译自www.ag-ip-news.com）
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